TSMC серьезно задумался о 28-нм техпроцессе |
25.05.2009 10:15
Компания Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) на предстоящей выставке-конференции Design Automation Conference (DAC) намерена продемонстрировать новейшую технологию Reference Flow 10.0 для 28-нм техпроцессов, тем самым сделав огромный шаг к переходу на новый технологический уровень разработки чипов, пишет DigiTimes.
В сентябре прошлого года тайваньский производитель заявил, что 28-нм архитектура найдет свое применение в испытаниях новой технологии HKMG (High-K/Metal Gate), предусматривающей использование диэлектриков с высоким значением диэлектрической постоянной и металлических затворов, а также в материалах из оксинитрида кремния (silicon oxynitride, SiON). Массовое производство было запланировано на первый квартал 2010 года.
По данным источника, 40-нм техпроцесс будет составлять около 8-10% от всего объема доходов TSMC к концу 2009 года, в втором квартале 2010 показатель вырастет до 15-20%.
По материалам DigiTimes
Источник: DailyComm
В сентябре прошлого года тайваньский производитель заявил, что 28-нм архитектура найдет свое применение в испытаниях новой технологии HKMG (High-K/Metal Gate), предусматривающей использование диэлектриков с высоким значением диэлектрической постоянной и металлических затворов, а также в материалах из оксинитрида кремния (silicon oxynitride, SiON). Массовое производство было запланировано на первый квартал 2010 года.
По данным источника, 40-нм техпроцесс будет составлять около 8-10% от всего объема доходов TSMC к концу 2009 года, в втором квартале 2010 показатель вырастет до 15-20%.
По материалам DigiTimes
Источник: DailyComm
-
30.03.2022
-
15.03.2022
-
14.03.2022
-
11.03.2022
-
10.03.2022
-
10.03.2022
-
22.02.2022
-
21.02.2022
-
21.02.2022
-
16.02.2022
-
15.02.2022
-
14.02.2022
-
11.02.2022
-
11.02.2022
-
09.02.2022